本发明涉及真空表面镀膜技术领域，尤其涉及一种磁性粉体材料表面溅射沉积金属的装置及方法。本发明提供的装置，包括真空腔体、真空泵组、磁控溅射靶、阴极离子源、水冷阳极和设置于所述真空腔体内的样品盛放部件，所述样品盛放部件为样品滚筒，所述样品滚筒的轴线沿水平方向设置，且所述样品滚筒能够绕其轴线转动，所述样品滚筒两端开口，还包括能够驱动所述样品滚筒转动的动力装置；所述阴极离子源与所述磁控溅射靶由所述样品滚筒的同一端开口向内伸入所述样品滚筒中；所述水冷阳极由所述样品滚筒的另一端开口向内伸入所述样品滚筒中。本发明提供的装置能够实现磁性粉体材料的表面高速均匀沉积，提高处理效率，适宜工业生产。