Ti-Mo合金薄膜及其制备方法
实质审查的生效
摘要
本发明公开了Ti‑Mo合金薄膜及其制备方法，包括Ti元素和Mo元素，Mo元素含量为20～40wt％，晶粒尺寸为80～150nm。将钛靶材和钼靶材装入直流磁控溅射设备的靶位，将基材装入工件架放于炉腔中，然后对炉腔抽真空；向炉腔中通入氩气，设置基材偏压，开启靶材电源，对靶材和基材表面进行轰击清洗；调节基材偏压至预设值，设置钛靶、钼靶溅射功率，通过调节钼靶功率控制Mo元素含量，在基材表面上得到Ti‑Mo合金薄膜；待炉温冷却至室温，取出基材，得到BCC结构的β相Ti‑Mo合金薄膜。β相Ti‑Mo合金薄膜表面平整、结构致密、膜层附着力好；薄膜热力学稳定性好、平衡电位高，因而提高了基体材料的耐蚀性。
基本信息
专利标题 ：
Ti-Mo合金薄膜及其制备方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114540778A
申请号 ：
CN202210045084.5
公开（公告）日 ：
2022-05-27
申请日 ：
2022-01-14
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
潘艳赵泉王涛张国君
申请人 ：
西安理工大学
申请人地址 ：
陕西省西安市碑林区金花南路5号
代理机构 ：
西安弘理专利事务所
代理人 ：
王丹
优先权 ：
CN202210045084.5
主分类号 ：
C23C14/35
IPC分类号 ：
C23C14/35 C23C14/02 C23C14/16
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
C23C14/35
利用磁场的，例如磁控溅射
法律状态
2022-06-14 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 14/35
申请日 : 20220114
申请日 : 20220114
2022-05-27 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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