具有布拉格反射镜的外延片的制备方法
公开
摘要
本公开提供了具有布拉格反射镜的外延片的制备方法，属于发光二极管技术领域。衬底上生长完包括n型层、有源层与p型层之后，再交替蒸镀多个SiO2折射层与Ti3O5折射层以得到布拉格反射镜。SiO2折射层的蒸镀速率为第一蒸镀速率以得到表面粗糙度为0.5～0.8nm的SiO2折射层，Ti3O5折射层的蒸镀速率为第二蒸镀速率以得到表面粗糙度为1.0～1.1nm的Ti3O5折射层；粗糙度合理，SiO2折射层与Ti3O5折射层的交界处会出现的颗粒物会减少，且SiO2折射层与Ti3O5折射层的交界处较为平整，粗糙度也较低。有效提高得到的布拉格反射镜的微观晶体质量与层间质量，以提高布拉格反射镜的反光效率。
基本信息
专利标题 ：
具有布拉格反射镜的外延片的制备方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114583032A
申请号 ：
CN202210054784.0
公开（公告）日 ：
2022-06-03
申请日 ：
2022-01-18
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
严帆汤淼冬旻弘
申请人 ：
华灿光电（浙江）有限公司
申请人地址 ：
浙江省金华市义乌市苏溪镇苏福路233号
代理机构 ：
北京三高永信知识产权代理有限责任公司
代理人 ：
吕耀萍
优先权 ：
CN202210054784.0
主分类号 ：
H01L33/46
IPC分类号 ：
H01L33/46 H01L33/60 H01L33/00
法律状态
2022-06-03 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
