一种用于光刻机的集成紫外全介质超透镜组
实质审查的生效
摘要

本发明公开了一种用于光刻机的集成紫外全介质超透镜组,它包括:第一亚波长阵列结构、透明基板、第二亚波长阵列结构;所述的第一亚波长阵列结构与第二亚波长阵列结构设置在透明基板的相对两侧;两个亚波长阵列结构由多个单元结构阵列形成;单元结构长和宽均小于工作波长;亚波长阵列结构会聚光线。一个超透镜组,还包括两个超透镜,分别为第一超透镜与第二超透镜;第一超透镜和第二超透镜均为亚波长阵列结构;第一超透镜与第二超透镜集成在同一透明基板两侧;第一超透镜与第二超透镜的直径比设计为4:1;实现了具有缩束功能的集成紫外全介质超透镜组,超透镜组减少了紫外系统的镜片数量,透过率高、能量损失小,加工工艺较简单。

基本信息
专利标题 :
一种用于光刻机的集成紫外全介质超透镜组
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114442439A
申请号 :
CN202210066372.9
公开(公告)日 :
2022-05-06
申请日 :
2022-01-20
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
梁中翥史晓燕徐海阳刘益春马剑钢孟德佳秦正杨福明刘华
申请人 :
东北师范大学
申请人地址 :
吉林省长春市南关区人民大街5268号
代理机构 :
长春市东师专利事务所
代理人 :
张铁生
优先权 :
CN202210066372.9
主分类号 :
G03F7/20
IPC分类号 :
G03F7/20  G02B13/14  G02B13/00  G02B3/00  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-05-24 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/20
申请日 : 20220120
2022-05-06 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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