本发明涉及薄膜制备技术领域，具体涉及一种ZnO薄膜制备工艺及装置，包括输送组件、清洗组件和风干组件，输送组件包括支撑台、两条第一输送线和第一清洗器，清洗组件包括移动器、升降器、清洗头和多个吸嘴，使用时将基片放置到两个第一输送线之间进行输送，当移动到第一清洗器上方时，通过升降器带动清洗头下移对基片进行清洗，然后启动吸嘴将基片吸起，升降器上移，然后启动第一清洗器对基片的下部进行清洗，然后移动移动器将基片送出，使得可以更加方便地对基片进行全方位的清洗，从而可以提高清洗效率。