一种光纤阵列光刻机
实质审查的生效
摘要

本公开实施例提出一种光纤阵列光刻机,其包括控制装置、光纤传输装置、光聚焦阵列以及电驱动工件台,还包括光刻光源、退激发光源、第一级分光阵列、电光调制阵列以及第二级分光阵列,所述控制装置与所述电光调制阵列以及所述电驱动工件台连接,所述控制装置用于基于设计版图控制所述电光调制阵列对于所述激光光源发射的激光进行调制以及控制所述电驱动工作台进行运动。本公开实施例避免采用复数个光学透镜或透镜组,从而实现更为简单的光路,制造和维护成本都大大降低;采用多根光纤构成光纤束,实行多光束并行曝光,能够提高光刻效率;采用电光调制阵列实现对光刻的激光光能的开关并结合电驱动工作台的移动,实现光刻的高速图案化功能,采用退激发光和光刻光结合实现光学衍射极限的超分辨光刻。

基本信息
专利标题 :
一种光纤阵列光刻机
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114488715A
申请号 :
CN202210151934.X
公开(公告)日 :
2022-05-13
申请日 :
2022-02-18
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
李西军
申请人 :
西湖大学
申请人地址 :
浙江省杭州市西湖区转塘街道石龙山街18号
代理机构 :
北京金信知识产权代理有限公司
代理人 :
贾然
优先权 :
CN202210151934.X
主分类号 :
G03F7/20
IPC分类号 :
G03F7/20  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-05-31 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/20
申请日 : 20220218
2022-05-13 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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