一种光刻用光纤束以及光刻机
实质审查的生效
摘要
本公开实施例提供一种光刻用光纤束以及光刻机,所述光刻用光纤束能够至少接收波长不同的曝光高斯光束和退激发高斯光束,其至少包括一根光刻光纤,所述光刻光纤包括用于传输光束的光纤芯,在所述光纤芯的外侧包围设置光纤包层,在所述光纤包层的入射端处设置螺旋相位结构,所述螺旋相位结构用于使得所述退激发高斯光束转换形成甜甜圈状的结构光光束,在所述光纤包层的出射端的外侧设置透镜结构。本公开实施例能够将曝光用光能量直接从光源传递到光刻胶表面,不需要透镜和透镜组,系统易于安装、占据空间小、成本和维护成本也降低;利用单根光纤可以实现至少两束波长不同的光束的同时和同轴传播,大大降低双光束光刻技术空间透镜组调节的技术难度。
基本信息
专利标题 :
一种光刻用光纤束以及光刻机
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114488716A
申请号 :
CN202210152726.1
公开(公告)日 :
2022-05-13
申请日 :
2022-02-18
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
李西军
申请人 :
西湖大学
申请人地址 :
浙江省杭州市西湖区转塘街道石龙山街18号
代理机构 :
北京金信知识产权代理有限公司
代理人 :
贾然
优先权 :
CN202210152726.1
主分类号 :
G03F7/20
IPC分类号 :
G03F7/20 G02B6/02
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-05-31 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/20
申请日 : 20220218
申请日 : 20220218
2022-05-13 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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