一种砷化镓晶片加工用抛光液及其制备方法
实质审查的生效
摘要
本申请涉及半导体领域，具体公开了一种砷化镓晶片加工用抛光液及其制备方法，该抛光液由包括以下重量份的原料制得：20‑40份硅溶胶、25‑40份二氯代异氰尿酸盐、15‑25份聚乙烯亚胺、10‑25份纳米二氧化铈和8‑18份气相二氧化硅；其制备方法包括以下步骤：将硅溶胶与气相二氧化硅混合，然后加入纳米二氧化铈，搅拌，加入二氯代异氰尿酸盐以及剩余原料，最后加入水，配制形成抛光液。本申请具有得到的抛光液稳定性更好、保质期更长的特点。
基本信息
专利标题 ：
一种砷化镓晶片加工用抛光液及其制备方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114507478A
申请号 ：
CN202210171739.3
公开（公告）日 ：
2022-05-17
申请日 ：
2022-02-24
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
赵波古新远
申请人 ：
北京通美晶体技术股份有限公司
申请人地址 ：
北京市通州区工业开发区东二街4号
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202210171739.3
主分类号 ：
C09G1/02
IPC分类号 ：
C09G1/02
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C09
染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用
C09G
抛光组合物；滑雪屐蜡
C09G1/00
抛光组合物
C09G1/02
含有磨料或研磨剂
法律状态
2022-06-03 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C09G 1/02
申请日 : 20220224
申请日 : 20220224
2022-05-17 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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