一种砷化镓晶片片盒清洗装置

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摘要

本实用新型涉及片盒清洗技术领域，尤其是一种砷化镓晶片片盒清洗装置，包括清洗装置本体，清洗装置本体的顶侧设有顶盖，清洗装置本体的内侧设有电动滑轨A，电动滑轨A的内侧设有滑块A，滑块A的一侧设有连接板A，连接板A的底侧设有电动滑轨B，电动滑轨B的内侧设有滑块B，滑块B的底侧设有连接板B，连接板B的底侧设有电动滑轨C,电动滑轨C的内侧设有夹紧块，清洗装置本体的底侧一端设有清洗器，清洗器的顶侧设有清洗池，清洗器的一侧设有隔板A和雾化清理池，该砷化镓晶片片盒清洗装置，清洗质量高，清洗数量多，移动方便，清洗后可烘干，方便存放。

基本信息

专利标题：

一种砷化镓晶片片盒清洗装置

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN202021504912.X

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2020-07-27

授权号：

CN214488097U

授权日：

2021-10-26

发明人：

郭辉刘欣蔡祗首杨涛

申请人：

惠州市中惠宇航半导体新材料有限公司

申请人地址：

广东省惠州市仲恺高新区陈江街道陈江大道北36号高新科技创新孵化器5楼501号

代理机构：

广州市红荔专利代理有限公司

代理人：

余志军

优先权：

CN202021504912.X

主分类号：

B08B3/12

IPC分类号：

B08B3/12 B08B13/00 F26B21/00