45°硅基反射镜及其制作方法
公开
摘要
本发明公开了一种45°硅基反射镜及其制作方法。所述制作方法包括：使100晶面的硅片的表面沿110方向定向腐蚀产生倾斜面以及沿100方向定向腐蚀产生平行面，获得反射镜集合体；从所述反射镜集合体上切割分离获得反射镜前体；将所述反射镜前体中倾斜面的粗糙度等级抛光至镜面级；从抛光后的所述反射镜前体中切割分离获得45°硅基反射镜。本发明提供的制作方法通过腐蚀，先得到45°的基础面，再通过冷加工的方法，将45°斜面抛光至镜面级，弥补了目前的技术不足，大大提升了硅基反射镜的反射率，工艺过程以及反射镜的结构简单，显著降低了制作成本，满足了广泛应用的需求。
基本信息
专利标题 ：
45°硅基反射镜及其制作方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114594540A
申请号 ：
CN202210237801.4
公开（公告）日 ：
2022-06-07
申请日 ：
2022-03-11
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
费孝斌黄寓洋
申请人 ：
苏州苏纳光电有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市工业园区星湖街218号生物纳米园A4楼109C单元
代理机构 ：
南京利丰知识产权代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 ：
赵世发
优先权 ：
CN202210237801.4
主分类号 ：
G02B5/08
IPC分类号 ：
G02B5/08
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B5/00
除透镜外的光学元件
G02B5/08
反射镜
法律状态
2022-06-07 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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