硅基半导体激光器及其制作方法
实质审查的生效
摘要

本发明公开了一种硅基半导体激光器及其制作方法。所述激光器包括第一二极管结构、发光有源区和第二二极管结构,发光有源区设置于第一二极管结构和第二二极管结构之间,当在所述第一二极管结构和/或第二二极管结构上施加预设的反向偏置电压时,所述第一二极管结构和/或第二二极管结构能够向所述发光有源区注入电子,并对所述发光有源区中的电子产生“电场阱”,从而将电子限制在发光有源区。本发明提供的硅基半导体激光器采用反向注入实现了电子‑空穴对在发光介质中电子载流子的有效收集,同时能有效实现能够发光的导带能谷电子和价带带顶空穴的粒子数反转,从而实现了硅基激光器的电注入激射。

基本信息
专利标题 :
硅基半导体激光器及其制作方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114336270A
申请号 :
CN202011057235.6
公开(公告)日 :
2022-04-12
申请日 :
2020-09-30
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
张耀辉马四光刘伟
申请人 :
苏州华太电子技术有限公司
申请人地址 :
江苏省苏州市工业园区星湖街328号创意产业园10-1F
代理机构 :
南京利丰知识产权代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 :
赵世发
优先权 :
CN202011057235.6
主分类号 :
H01S5/042
IPC分类号 :
H01S5/042  H01S5/026  H01L29/861  H01L29/872  H01L21/329  
法律状态
2022-04-29 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01S 5/042
申请日 : 20200930
2022-04-12 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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