光栅基底清洗装置及其清洗方法
公开
摘要
本发明提供一种光栅基底清洗装置及其清洗方法，其中的清洗装置包括：基底固定座，用于固定光栅基底；位于基底固定座下方的清洗池，在清洗池内装有用于清洗光栅基底的酸溶液；升降机构，分布于基底固定座的两侧；连接轴，连接轴的一端与基底固定座固定连接，连接轴的另一端通过球头万向节与升降机构转动连接。本发明在保证操作便捷的基础上，确保光栅基底清洗的工艺过程完整可靠，使最终制备出的大尺寸中阶梯光栅金属膜层具备良好的附着力。
基本信息
专利标题 ：
光栅基底清洗装置及其清洗方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114589148A
申请号 ：
CN202210241225.0
公开（公告）日 ：
2022-06-07
申请日 ：
2022-03-11
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
糜小涛周敬萱江思博高键翔于宏柱巴音贺希格江锐徐向宇刘广义
申请人 ：
中国科学院长春光学精密机械与物理研究所;北京科益虹源光电技术有限公司
申请人地址 ：
吉林省长春市经济技术开发区东南湖大路3888号
代理机构 ：
长春中科长光知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
高一明
优先权 ：
CN202210241225.0
主分类号 ：
B08B3/08
IPC分类号 ：
B08B3/08 B08B3/02 B08B11/02 B08B11/04 B08B13/00 C23C14/02 C23C14/30 C23C14/14
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B08
清洁
B08B
一般清洁；一般污垢的防除
B08B3/00
使用液体或蒸气的清洁方法
B08B3/04
与液体接触的清洁
B08B3/08
具有化学作用或溶解作用的液体
法律状态
2022-06-07 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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