本发明提供了一种连续式ALD镀膜设备的物料移动结构，涉及原子层沉积技术领域。其中，这种物料移动结构包含箱体组件和驱动组件。箱体组件包括依次连接的加热腔体、连接腔体和冷却腔体。驱动组件包括两个驱动构件。两个驱动构件分别配置于加热腔体和冷却腔体。配置于加热腔体的驱动构件被构造为：能够沿着预定轨迹来回移动，以将加热腔室外的工件移动至加热腔室内，以及用以将加热腔室内的工件移动至镀膜腔室内。配置于冷却腔体的驱动构件被构造为：能够沿着预定轨迹来回移动，以将镀膜腔室内的工件移动至冷却腔室内，以及用以将冷却腔室内的工件移动到冷却腔室外；所述箱体组件还包括配置于所述连接腔体的第一检修门。简化镀膜腔体的结构便于清洗。