一种基于变分模态分解的X射线荧光光谱本底扣除方法
公开
摘要
本发明提供一种基于变分模态分解的X射线荧光光谱本底扣除方法，其特征在于，利用变分模态分解VMD算法对X射线荧光光谱XRF的原始光谱数据进行分解，分解后选择第一层分量进行处理；将处理后的第一层分量再进行迭代分解，直到达到VMD算法的停止条件，并将最后分解得到的第一层分量作为最终估计的本底；在原始光谱数据上减去本底分量得到扣除本底后的光谱数据。本发明具有效果不弱于当前所有已有的本底扣除方法，同时具有使用简单、自适应于所有谱图、效果稳定、无需根据谱图选择不同参数等优点。
基本信息
专利标题 ：
一种基于变分模态分解的X射线荧光光谱本底扣除方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114624271A
申请号 ：
CN202210305018.7
公开（公告）日 ：
2022-06-14
申请日 ：
2022-03-25
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
李福生鲁欣曾小龙朱鹏飞
申请人 ：
电子科技大学
申请人地址 ：
四川省成都市高新区（西区）西源大道2006号
代理机构 ：
电子科技大学专利中心
代理人 ：
邹裕蓉
优先权 ：
CN202210305018.7
主分类号 ：
G01N23/223
IPC分类号 ：
G01N23/223 G06K9/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N23/00
利用波或粒子辐射来测试或分析材料，例如未包括在G01N3/00-G01N17/00、G01N 21/00 或G01N 22/00中的X射线或中子
G01N23/22
通过测量材料的二次发射
G01N23/223
通过用X射线或γ射线辐照样品以及测量X射线荧光
法律状态
2022-06-14 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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