本发明提供了一种旋转靶材喷砂清洗系统装置、喷砂清洗方法及用途，所述的系统装置包括预处理单元与工作台，所述的预处理单元用于对工作台上的旋转靶材依次进行喷砂、清洗与干燥处理；所述的预处理单元包括支架，所述的支架由上至下依次设置有第一横杆与第二横杆，所述第一横杆上设置有干燥组件，所述第二横杆上设置有喷砂组件与清洗组件，所述的工作台包括驱动装置，所述的驱动装置包括分别设置于旋转靶材两侧的传动组件，以及设置于旋转靶材一端的护具。本发明能够防止旋转靶材脱落，确保旋转靶材表面的均匀性，提高靶材的加工的便利性与效率。