改善了与基片的结合程度的金属箔以及制造这种金属箔的方法
专利申请的视为撤回
摘要
本发明为一种具有改善的与基片结合程度的金属箔，它在一个表面上有三层重叠的电解沉积层，邻近所述表面的第一层为主要成分是第一金属的树状沉积层，第二层是在所述第一层上面均匀沉积的金属闪光膜，第三层为树状沉积。所披露的制造这种金属箔的方法的组成是：(A)在所述箔上电解沉积一个以第一金属为主要成分的树状沉积层；(B)在(A)的树状沉积层上电解沉积一个金属闪光膜；(C)在(B)的所述金属闪光膜上电解沉积一个树状沉积金属层。
基本信息
专利标题 ：
改善了与基片的结合程度的金属箔以及制造这种金属箔的方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1068155A
申请号 ：
CN92105142.5
公开（公告）日 ：
1993-01-20
申请日 ：
1992-06-27
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
理查德·J·萨迪丹尼斯·M·扎特
申请人 ：
古尔德有限公司
申请人地址 ：
美国俄亥俄州
代理机构 ：
中国国际贸易促进委员会专利代理部
代理人 ：
范本国
优先权 ：
CN92105142.5
主分类号 ：
C25D5/10
IPC分类号 ：
C25D5/10 C25D7/06 H05K3/38 B32B15/01
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C25
电解或电泳工艺；其所用设备
C25D
覆层的电解或电泳生产工艺方法；电铸；工件的电解法接合；所用的装置
C25D5/00
以工艺方法为特征的电镀；工件的预处理或后处理
C25D5/10
一层以上相同金属或不同金属的电镀
法律状态
1997-08-20 ：
专利申请的视为撤回
1993-12-15 ：
实质审查请求的生效
1993-01-20 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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