加温闪光两用纳米压印装置
专利权的终止
摘要

加温闪光两用纳米压印装置,由双路CCD对准系统、Z向校正器、紫光照明系统、左右侧板、油压顶系统、承片加热台、倾斜校准机构和控制系统等组成,主机大底板位于电气控制系统的机台柜上,并安装了左右侧板和后板及上面安装了横板构成框架,在横板的下面悬挂有Z向校正机构和装有压模的倾斜校准机构,在主机大底板的中间正对压模的位置装了油压顶系统,使安于上面的XYθ微动工件台、承片加热台和基片上升压紧压模而压印出纳米图形结构,装于横板上的紫光照明系统可对压印层聚合物进行紫光照射使其固化,同时承片吸板可被加热升温和降温,使聚合物固化脱模,从而可实现闪光压印和加温大面积压印。本发明发挥出了两种压印方法的优点,以利于推广应用。

基本信息
专利标题 :
加温闪光两用纳米压印装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN1776526A
申请号 :
CN200510086826.5
公开(公告)日 :
2006-05-24
申请日 :
2005-11-10
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
罗先刚陈旭南胡承刚
申请人 :
中国科学院光电技术研究所
申请人地址 :
610209四川省成都市双流350信箱
代理机构 :
北京科迪生专利代理有限责任公司
代理人 :
刘秀娟
优先权 :
CN200510086826.5
主分类号 :
G03F7/00
IPC分类号 :
G03F7/00  G03F7/20  G03F9/00  B41M5/26  B81C1/00  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
法律状态
2017-01-04 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101696007847
IPC(主分类) : G03F 7/20
专利号 : ZL2005100868265
申请日 : 20051110
授权公告日 : 20100120
终止日期 : 20151110
2010-01-20 :
授权
2008-02-27 :
实质审查的生效
2006-05-24 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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