用于具有基本设计限制的集成电路的技术迁移的方法和系统
专利权的终止
摘要
本发明公开了一种用于使集成电路(IC)设计从没有基本设计限制(RDR)的源技术迁移至具有RDR的目标技术的系统、方法和程序产品。本发明实现满足RDR需求的最小布图扰动方法。本发明还解决了插入需要的虚拟形状并延伸关键形状和/或虚拟形状的长度以满足“边缘覆盖度”需求的问题。
基本信息
专利标题 ：
用于具有基本设计限制的集成电路的技术迁移的方法和系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1801160A
申请号 ：
CN200510117036.9
公开（公告）日 ：
2006-07-12
申请日 ：
2005-10-28
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
袁昕K·W·麦卡伦邢福仑R·F·沃克J·希伯勒R·J·爱伦R·R·纳拉扬C·V·恩迪科特
申请人 ：
国际商业机器公司
申请人地址 ：
美国纽约
代理机构 ：
北京市中咨律师事务所
代理人 ：
于静
优先权 ：
CN200510117036.9
主分类号 ：
G06F17/50
IPC分类号 ：
G06F17/50
法律状态
2017-12-15 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : G06F 17/50
申请日 : 20051028
授权公告日 : 20081210
终止日期 : 20161028
申请日 : 20051028
授权公告日 : 20081210
终止日期 : 20161028
2008-12-10 ：
授权
2006-09-06 ：
实质审查的生效
2006-07-12 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
