金属薄膜连续电沉积装置及其方法
专利权的终止
摘要

本发明属于磁性材料领域,涉及金属薄膜的制备方法和装置。本发明金属薄膜连续电沉积装置由电镀槽、支撑辊、剥离辊、清洗装置、吹干装置、烘干装置、张力调节装置、卷曲装置、电镀液补充装置、电镀液循环装置、控制系统和电镀电源组成;所述的连续电沉积方法,以柔性封闭金属带作为电沉积基带,当封闭金属带在电镀槽内循环回转的过程中、浸在电镀液内的部分就会电沉积一层金属薄膜,该金属薄膜先后经在线剥离、清洗、吹干、烘干和张力调节后由卷曲装置卷曲成金属薄膜带卷;封闭金属带不间断连续运动,电镀槽中电镀液不断循环和补充,整个过程不间断地连续进行,金属薄膜带则连续形成。

基本信息
专利标题 :
金属薄膜连续电沉积装置及其方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN1793434A
申请号 :
CN200510127810.4
公开(公告)日 :
2006-06-28
申请日 :
2005-12-06
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
卢志超倪晓俊张俊峰孙克刘天成张宏浩韩伟李德仁周少雄
申请人 :
钢铁研究总院;安泰科技股份有限公司
申请人地址 :
100081北京市海淀区学院南路76号
代理机构 :
北京中安信知识产权代理事务所
代理人 :
金向荣
优先权 :
CN200510127810.4
主分类号 :
C25D1/04
IPC分类号 :
C25D1/04  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C25
电解或电泳工艺;其所用设备
C25D
覆层的电解或电泳生产工艺方法;电铸;工件的电解法接合;所用的装置
C25D1/00
电铸
C25D1/04
丝;带;箔
法律状态
2018-11-23 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : C25D 1/04
申请日 : 20051206
授权公告日 : 20091202
终止日期 : 20171206
2009-12-02 :
授权
2007-10-17 :
专利申请权、专利权的转移专利申请权的转移
变更事项 : 申请人
变更前权利人 : 钢铁研究总院
变更后权利人 : 安泰科技股份有限公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 100081北京市海淀区学院南路76号
变更后权利人 : 100081北京市海淀区学院南路76号
变更事项 : 共同申请人
变更前权利人 : 安泰科技股份有限公司
变更后权利人 : 无
登记生效日 : 20070914
2006-08-23 :
实质审查的生效
2006-06-28 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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