真空冷喷涂工艺
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要
一种用于将金属材料沉积到基底上的方法包括以下步骤：即将基底安放在真空室中、将喷枪喷嘴插入真空室的孔口内以及在不熔化粉末状金属材料的情况下将粉末状金属材料沉积到基底表面上。所述沉积步骤包括将真空室内的粉末状金属材料微粒加速至一定速度，以使得撞击后微粒进行塑性变形且粘结到基底表面上。
基本信息
专利标题 ：
真空冷喷涂工艺
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1782127A
申请号 ：
CN200510128948.6
公开（公告）日 ：
2006-06-07
申请日 ：
2005-12-02
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
J·D·海恩斯D·A·霍布斯
申请人 ：
联合工艺公司
申请人地址 ：
美国康涅狄格州
代理机构 ：
中国专利代理(香港)有限公司
代理人 ：
廖凌玲
优先权 ：
CN200510128948.6
主分类号 ：
C23C24/04
IPC分类号 ：
C23C24/04
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C24/00
自无机粉末起始的镀覆（熔融态覆层材料的喷镀入C23C4/00；固渗入C23C8/00-C23C12/00
C23C24/02
仅使用压力的
C23C24/04
颗粒的冲击或动力沉积
法律状态
2009-04-22 ：
发明专利申请公布后的视为撤回
2006-08-02 ：
实质审查的生效
2006-06-07 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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