含磺酸酯的形成光刻用防反射膜的组合物
授权
摘要
本发明的课题在于提供，能够形成防反射光效果好，与光致抗蚀剂不发生混合，具有比光致抗蚀剂大的蚀刻速度，能够形成在下部没有褶边状(基脚：footing)的光致抗蚀剂图案，在采用ArF准分子激光和F2准分子激光等光刻工艺中能够使用的防反射膜，和用于形成该防反射膜的形成光刻用防反射膜的组合物，本发明提供了形成光刻用防反射膜的组合物，它含有高分子化合物、交联性化合物、交联催化剂、磺酸酯化合物和溶剂。
基本信息
专利标题 ：
含磺酸酯的形成光刻用防反射膜的组合物
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101052919A
申请号 ：
CN200580037457.9
公开（公告）日 ：
2007-10-10
申请日 ：
2005-10-25
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
岸冈高广畑中真木村茂雄
申请人 ：
日产化学工业株式会社
申请人地址 ：
日本东京都
代理机构 ：
北京市中咨律师事务所
代理人 ：
段承恩
优先权 ：
CN200580037457.9
主分类号 ：
G03F7/11
IPC分类号 ：
G03F7/11 C08G59/14 H01L21/027
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/004
感光材料
G03F7/09
以细部结构为特征的，例如，基片层、辅助层
G03F7/11
具有覆盖层或中间层的，例如，胶层
法律状态
2011-05-25 ：
授权
2007-12-05 ：
实质审查的生效
2007-10-10 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
