控制空间温度分布的方法和装置
发明专利申请公布后的驳回
摘要

一种用于等离子处理器的夹盘包含温度控制基底、热绝缘体、平面支撑件和加热器。在操作中将所述温度控制基底的温度控制为低于工件的所要温度。所述热绝缘体安置于所述温度控制基底的至少一部分上方。所述平面支撑件固持工件且安置于所述热绝缘体上方。加热器嵌入所述平面支撑件内部和/或安装于所述平面支撑件的底面上。所述加热器包括加热多个相应加热区的多个加热元件。每一加热元件的所供应功率和/或温度被独立地控制。所述加热器和平面支撑件具有至少每秒1℃的组合温度变化速率。

基本信息
专利标题 :
控制空间温度分布的方法和装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN101111934A
申请号 :
CN200580047289.1
公开(公告)日 :
2008-01-23
申请日 :
2005-12-01
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
尼尔·本杰明罗伯特·J·斯蒂格
申请人 :
蓝姆研究公司
申请人地址 :
美国加利福尼亚州
代理机构 :
北京律盟知识产权代理有限责任公司
代理人 :
王允方
优先权 :
CN200580047289.1
主分类号 :
H01L21/683
IPC分类号 :
H01L21/683  
相关图片
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21/683
用于支承或夹紧的
法律状态
2011-09-14 :
发明专利申请公布后的驳回
号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101183794183
IPC(主分类) : H01L 21/683
专利申请号 : 2005800472891
公开日 : 20080123
2008-03-12 :
实质审查的生效
2008-01-23 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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