抛光垫
专利权的终止
摘要
提供了一种具有新颖结构的抛光垫，该抛光垫可应用于非常精确的各种抛光加工例如CMP法。在抛光垫的背面(20)上形成沿周向延伸的环形背面凹槽(22)。
基本信息
专利标题 ：
抛光垫
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101119829A
申请号 ：
CN200580048296.3
公开（公告）日 ：
2008-02-06
申请日 ：
2005-12-19
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
铃木辰俊
申请人 ：
东邦工程株式会社;井上株式会社
申请人地址 ：
日本三重县
代理机构 ：
北京市中咨律师事务所
代理人 ：
吴鹏
优先权 ：
CN200580048296.3
主分类号 ：
B24B37/00
IPC分类号 ：
B24B37/00 H01L21/304
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B24
磨削；抛光
B24B
用于磨削或抛光的机床、装置或工艺（用电蚀入B23H；磨料或有关喷射入B24C；电解浸蚀或电解抛光入C25F3/00；磨具磨损表面的修理或调节；磨削，抛光剂或研磨剂的进给
B24B37/00
研磨机床或装置；附件
法律状态
2015-02-11 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101598341174
IPC(主分类) : B24B 37/00
专利号 : ZL2005800482963
申请日 : 20051219
授权公告日 : 20091125
终止日期 : 20131219
号牌文件序号 : 101598341174
IPC(主分类) : B24B 37/00
专利号 : ZL2005800482963
申请日 : 20051219
授权公告日 : 20091125
终止日期 : 20131219
2009-11-25 ：
授权
2008-04-02 ：
实质审查的生效
2008-02-06 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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