基于一维半导体纳米结构的光电传感器及其制作方法
专利权的终止
摘要

本发明涉及的基于一维半导体纳米结构的光电传感器和制作方法,包括:一单晶硅片式基体;依次通过热氧化法生长于单晶硅片式基体表面上的二氧化硅层和采用低压化学气相沉积法或等离子增强化学气相沉积法淀积在二氧化硅层表面上的氮化硅层;二氧化硅层和氮化硅层构成绝缘层;还包括:通过光刻/离子刻蚀法制备于绝缘层表面上的由第一梳式电极和第二梳式电极构成的梳式电极对;电极对的多梳齿端相对放置,之间组装有一维半导体纳米结构;有益效果:微电极对的制作为标准微加工工艺,方法简单;一维半导体纳米结构尺寸小,表面积/体积比大,光电效率高,且简单的电泳组装可实现批量生产;该光电传感器尺寸小,灵敏度高,能用于光检测、光开关等。

基本信息
专利标题 :
基于一维半导体纳米结构的光电传感器及其制作方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN1805156A
申请号 :
CN200610000995.7
公开(公告)日 :
2006-07-19
申请日 :
2006-01-13
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
周兆英朱荣王鼎渠叶雄英
申请人 :
清华大学
申请人地址 :
100084北京市100084-82号
代理机构 :
北京泛华伟业知识产权代理有限公司
代理人 :
王凤华
优先权 :
CN200610000995.7
主分类号 :
H01L31/09
IPC分类号 :
H01L31/09  H01L31/18  
法律状态
2011-03-23 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101059689108
IPC(主分类) : H01L 31/09
专利号 : ZL2006100009957
申请日 : 20060113
授权公告日 : 20081022
终止日期 : 20100222
2008-10-22 :
授权
2006-09-13 :
实质审查的生效
2006-07-19 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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