膜形成方法、光电装置的制造方法及电子设备
专利权的终止
摘要
一种膜形成方法、光电装置的制造方法及电子设备，该膜形成方法，包括：涂敷工序，喷出液状体并在基板上涂敷；干燥工序，在所述涂敷工序后所述液状体中含有的溶剂的蒸发量超过40％之前，利用干燥装置对涂敷在所述基板上的所述液状体进行干燥。
基本信息
专利标题 ：
膜形成方法、光电装置的制造方法及电子设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1808248A
申请号 ：
CN200610004893.2
公开（公告）日 ：
2006-07-26
申请日 ：
2006-01-12
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
蛭间敬
申请人 ：
精工爱普生株式会社
申请人地址 ：
日本东京
代理机构 ：
中科专利商标代理有限责任公司
代理人 ：
李香兰
优先权 ：
CN200610004893.2
主分类号 ：
G02F1/1337
IPC分类号 ：
G02F1/1337 B05D1/00 G02F1/133
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02F
用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如转换、选通、调制或解调，上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的；用于上述操作的技术或工艺；变频；非线性光学；光学逻辑元件；光学模拟/数字转换器
G02F1/00
控制来自独立光源的光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如，转换、选通或调制；非线性光学
G02F1/01
对强度、相位、偏振或颜色的控制
G02F1/13
基于液晶的，例如单位液晶显示单元
G02F1/133
构造上的设备；液晶单元的工作；电路装置
G02F1/1333
构造上的设备
G02F1/1337
液晶分子的表面诱导取向，例如借助列向层
法律状态
2016-03-02 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101649480883
IPC(主分类) : G02F 1/1337
专利号 : ZL2006100048932
申请日 : 20060112
授权公告日 : 20090128
终止日期 : 20150112
号牌文件序号 : 101649480883
IPC(主分类) : G02F 1/1337
专利号 : ZL2006100048932
申请日 : 20060112
授权公告日 : 20090128
终止日期 : 20150112
2009-01-28 ：
授权
2006-09-20 ：
实质审查的生效
2006-07-26 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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