一种电弧离子镀低温沉积高质量装饰薄膜的设备和方法
专利申请权、专利权的转移
摘要

一种电弧离子镀低温沉积高质量装饰薄膜的设备和方法属于金属材料表面改性技术领域。在电弧离子镀中采用双电磁场结构的阴极弧源和脉冲方式的负偏压,利用电磁场过滤减少大颗粒的数量,并通过脉冲偏压控制沉积温度,在金属表面,尤其是低熔点的铜锌铝合金材料表面低温沉积高质量的铬、锆、钛、铝及其合金或者其氮化物、碳化物薄膜,既能满足装饰性要求,又能满足耐磨抗蚀性能要求。与传统结构的电弧离子镀设备和方法相比,不明显降低沉积效率,但大幅度提高沉积质量,尤其是薄膜的表面质量,而且能够将沉积温度控制在低熔点合金可以接受装饰镀膜的程度。适用于各种金属及低熔点合金制品的装饰性镀膜领域。

基本信息
专利标题 :
一种电弧离子镀低温沉积高质量装饰薄膜的设备和方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN1804105A
申请号 :
CN200610045720.5
公开(公告)日 :
2006-07-19
申请日 :
2006-01-20
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
林国强
申请人 :
大连理工大学
申请人地址 :
116024辽宁省大连市甘井子区凌工路2号
代理机构 :
大连八方知识产权代理有限公司
代理人 :
卫茂才
优先权 :
CN200610045720.5
主分类号 :
C23C14/22
IPC分类号 :
C23C14/22  C23C14/56  C23C14/54  
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
法律状态
2013-06-26 :
专利申请权、专利权的转移
专利权的转移号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101619823909
IPC(主分类) : C23C 14/22
专利号 : ZL2006100457205
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 大连理工大学技术转移中心有限公司
变更后权利人 : 大连理工常州研究院有限公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 116024 辽宁省大连市高新园区黄浦路541号2302室
变更后权利人 : 213161 江苏省常州市科教城大连理工大学常州研究院大楼A209室
登记生效日 : 20130603
2013-06-05 :
专利申请权、专利权的转移
专利权的转移号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101601043059
IPC(主分类) : C23C 14/22
专利号 : ZL2006100457205
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 大连理工大学产业投资有限公司
变更后权利人 : 大连理工大学技术转移中心有限公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 116023 辽宁省大连市软件园路80号科技园大厦508房间
变更后权利人 : 116024 辽宁省大连市高新园区黄浦路541号2302室
登记生效日 : 20130506
2013-04-03 :
专利申请权、专利权的转移
专利权的转移号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101561598501
IPC(主分类) : C23C 14/22
专利号 : ZL2006100457205
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 大连理工大学
变更后权利人 : 大连理工大学产业投资有限公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 116024 辽宁省大连市甘井子区凌工路2号
变更后权利人 : 116023 辽宁省大连市软件园路80号科技园大厦508房间
登记生效日 : 20130313
2009-02-11 :
授权
2006-09-13 :
实质审查的生效
2006-07-19 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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