Q-调制半导体激光器
专利权的终止
摘要

本实用新型公开了一种Q-调制半导体激光器,包含第一个光学腔和第二个光学腔,所述第一个光学腔是一个包含增益区域的谐振腔,所述第二个光学腔是一个包含调制器区域的反谐振腔;所述第二个光学腔通过一个部分反射的分隔元件与第一个光学腔相耦合,并作为激光器的后反射体;所述调制器区域的吸收系数通过一电致方法被调制并导致所述后反射体反射率和激光器Q值的调制从而改变激光发射的阈值和输出能量。本实用新型有多种不同具体结构,其中第一个光学腔可分别基于分布反馈光栅、法布里-泊罗谐振腔、分布式布拉格光栅和波长可变的复合谐振腔结构。本实用新型的Q-调制半导体激光器具有集成化、高速、高消光比、低波长啁啾和低成本等优点。

基本信息
专利标题 :
Q-调制半导体激光器
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN200620102994.9
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2006-04-24
授权号 :
CN200953431Y
授权日 :
2007-09-26
发明人 :
何建军
申请人 :
何建军
申请人地址 :
310027浙江省杭州市古墩路369号金田花园4幢1单元402室
代理机构 :
杭州求是专利事务所有限公司
代理人 :
林怀禹
优先权 :
CN200620102994.9
主分类号 :
H01S5/00
IPC分类号 :
H01S5/00  H01S5/10  H01S5/06  
法律状态
2010-08-04 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101004366602
IPC(主分类) : H01S 5/00
专利号 : ZL2006201029949
申请日 : 20060424
授权公告日 : 20070926
2007-09-26 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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