4H-SiC雪崩光电探测器
专利权的终止
摘要

4H-SiC雪崩光电探测器,涉及一种光电探测器。提供一种在低击穿电压下具有高的内部增益,对可见光与红外光不敏感,可直接对紫外光、微弱信号和单光子信号进行检测的4H-SiC雪崩光电探测器。设有n+型4H-SiC衬底,衬底上从下到上生长n型外延吸收层、n型外延倍增层和p+外延层,吸收层为非故意掺杂的本征层或掺杂浓度1×1015/cm3~1×1016/cm3的轻掺杂层;倍增层掺杂浓度1×1016/cm3~1×1018/cm3,厚度为0.05~0.5μm;p+外延层掺杂浓度至少为1×1018/cm3,厚度为0.1~0.5μm。器件表面为钝化膜,在p+外延层上设p电极,p电极上设焊盘,衬底背面设n电极。

基本信息
专利标题 :
4H-SiC雪崩光电探测器
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN200620156550.3
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2006-12-20
授权号 :
CN201000897Y
授权日 :
2008-01-02
发明人 :
吴正云朱会丽陈厦平
申请人 :
厦门大学
申请人地址 :
361005福建省厦门市思明南路422号
代理机构 :
厦门南强之路专利事务所
代理人 :
马应森
优先权 :
CN200620156550.3
主分类号 :
H01L31/107
IPC分类号 :
H01L31/107  H01L31/18  
法律状态
2015-02-04 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101597924315
IPC(主分类) : H01L 31/107
专利号 : ZL2006201565503
申请日 : 20061220
授权公告日 : 20080102
终止日期 : 20131220
2008-01-02 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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