发光元件及发光元件的制造方法
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摘要

形成在发光元件1的化合物半导体层100第二主表面的第二电极16,具备接合合金化层31与焊料层34,该接合合金化层31与化合物半导体层100的第二主表面接触设置,同时用于降低与该化合物半导体层100的接合阻抗,该焊料层34用于将该接合金属层连接于通电支持体52。该焊料层34,是由设置在接合合金化层31侧、以Sn为主成分且熔点低于接合合金化层31的Sn系金属构成的Sn系焊料层34s,以及位在该Sn系焊料层34s的接合合金化层31的相反侧、与Sn系焊料层34s接触的Au-Sn系焊料层34m所构成,且该Au-Sn系焊料层34m含有30质量%~90质量%的Au、与10质量%~70质量%的Sn,Au与Sn的合计含有量大于或等于80质量%,且熔点高于Sn系焊料层34s。藉此,在以Au-Sn系焊料层进行安装为前提的发光元件中,提供一种Au-Sn系焊料层与接合合金化层之间具有更加优异的接合可靠性,进而不易产生Au-Sn

基本信息
专利标题 :
发光元件及发光元件的制造方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN101111946A
申请号 :
CN200680003703.3
公开(公告)日 :
2008-01-23
申请日 :
2006-01-26
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
池田均小原正义
申请人 :
信越半导体株式会社
申请人地址 :
日本国东京都
代理机构 :
南京经纬专利商标代理有限公司
代理人 :
楼高潮
优先权 :
CN200680003703.3
主分类号 :
H01L33/00
IPC分类号 :
H01L33/00  H01L21/28  B23K35/26  H01L21/52  
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法律状态
2009-08-19 :
授权
2008-03-12 :
实质审查的生效
2008-01-23 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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