聚合物材料的光刻构图
发明专利申请公布后的驳回
摘要

本发明包括对涂布在塑料衬底上的可光固化聚合物组合物中的特征进行光刻成像的方法。在本发明的一个实施方式中,用反射膜例如金属阻挡层涂布所述塑料衬底。在另一个实施方式中,所述塑料衬底涂布有含有吸收所述光固化辐射的添加剂的聚合物阻挡层,或者将所述塑料衬底与之共挤出。在另一个实施方式中,该塑料衬底含有吸收所述光固化辐射的内在添加剂。这些实施方式的组合也在本发明的范围之内。本发明的方法不仅可以有利地用于制作包含支撑在塑料衬底上的可光固化聚合物的光波导,也适合于制造包含支撑在塑料衬底上的可光固化聚合物的任何器件或物体。

基本信息
专利标题 :
聚合物材料的光刻构图
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN101142532A
申请号 :
CN200680004936.5
公开(公告)日 :
2008-03-12
申请日 :
2006-02-15
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
R·B·沙尔特尔斯D·库库尔吉
申请人 :
RPO私人有限公司
申请人地址 :
澳大利亚阿克特
代理机构 :
北京市中咨律师事务所
代理人 :
林柏楠
优先权 :
CN200680004936.5
主分类号 :
G03F7/09
IPC分类号 :
G03F7/09  G03F7/11  G02B6/10  G02B6/12  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/004
感光材料
G03F7/09
以细部结构为特征的,例如,基片层、辅助层
法律状态
2014-10-29 :
发明专利申请公布后的驳回
号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101706684151
IPC(主分类) : G03F 7/09
专利申请号 : 2006800049365
申请公布日 : 20080312
2008-05-07 :
实质审查的生效
2008-03-12 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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