全封闭交叉式真空成膜机
专利权的终止
摘要

全封闭交叉式真空成膜机涉及有机分子、金属及无机化合物在真空条件下成膜的设备,主要用于制备有机及有机/无机复合半导体薄膜电子及光电子器件的设备,该成膜机包括第一蒸镀室(1)、第二蒸镀室(2)、预处理兼过渡室(3)、手套箱(4)、第一掩模室(5)、第二掩模室(6);第一蒸镀室(1)附带第一掩模室(5),第二蒸镀室(2)附带第二掩模室(6),第一蒸镀室(1)与手套箱(4)经由预处理过度室(3)成垂直交叉连接;第二蒸镀室(2)、预处理过度室(3)及手套箱(4)成直线连接。第一蒸镀室(1)、第二蒸镀室(2)采用圆筒型真空室体,与外部由密封法兰连接。

基本信息
专利标题 :
全封闭交叉式真空成膜机
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN200720036684.6
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2007-04-10
授权号 :
CN201024210Y
授权日 :
2008-02-20
发明人 :
黄维邓先宇魏昂密保秀王秋来
申请人 :
南京邮电大学
申请人地址 :
210003江苏省南京市新模范马路66号
代理机构 :
南京经纬专利商标代理有限公司
代理人 :
叶连生
优先权 :
CN200720036684.6
主分类号 :
C23C14/24
IPC分类号 :
C23C14/24  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
法律状态
2017-05-24 :
专利权的终止
专利权有效期届满号牌文件类型代码 : 1611
号牌文件序号 : 101722424461
IPC(主分类) : C23C 14/24
专利号 : ZL2007200366846
申请日 : 20070410
授权公告日 : 20080220
终止日期 : 无
2010-08-11 :
专利申请权、专利权的转移
专利权的转移号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101003839688
IPC(主分类) : C23C 14/24
专利号 : ZL2007200366846
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 南京邮电大学资产经营有限责任公司
变更后权利人 : 无锡方圆环球显示技术股份有限公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 210003 江苏省南京市新模范马路66号
变更后权利人 : 214028 无锡新区菱湖大道97号兴业楼B四楼
登记生效日 : 20100702
2010-02-10 :
专利申请权、专利权的转移(专利权的转移)
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 南京邮电大学
变更后权利人 : 南京邮电大学资产经营有限责任公司
变更事项 : 地址
变更前 : 江苏省南京市新模范马路66号,邮编 : 210003
变更后 : 江苏省南京市新模范马路66号,邮编 : 210003
登记生效日 : 20100108
2008-02-20 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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