湿法清洗中的非活性氛围装置
专利权的终止
摘要

本实用新型涉及一种湿法清洗工艺中的非活性氛围装置,包括:至少一个非活性气体容器,每个容器中容纳一种非活性气体;清洗单元,该清洗单元包括:位于清洗单元上部的风机过滤单元,通过管道与上述至少一个非活性气体容器或空气相连通,用于吸入并过滤非活性气体或空气;位于清洗单元中部的清洗槽;位于清洗单元下侧的排气管,用于将清洗单元内部的气体排出;位于气体管道中的气泵,用于循环利用非活性气体;用于控制非活性氛围装置的控制板。本实用新型可以使清洗单元内部层流气体为非活性气体,从而防止活性较强的金属与空气中的氧气发生氧化反应,同时,保持了清洗单元内的纯气体氛围,从而避免空气中的不纯杂质污染晶片,以及其它非预期反应。

基本信息
专利标题 :
湿法清洗中的非活性氛围装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN200720181473.1
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2007-11-26
授权号 :
CN201104321Y
授权日 :
2008-08-20
发明人 :
许义全
申请人 :
和舰科技(苏州)有限公司
申请人地址 :
215025江苏省苏州市苏州工业园区星华街333号
代理机构 :
北京连和连知识产权代理有限公司
代理人 :
屈小春
优先权 :
CN200720181473.1
主分类号 :
H01L21/00
IPC分类号 :
H01L21/00  H01L21/02  H01L21/67  
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
法律状态
2011-02-02 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101035919487
IPC(主分类) : H01L 21/00
专利号 : ZL2007201814731
申请日 : 20071126
授权公告日 : 20080820
终止日期 : 20091228
2008-08-20 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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