高真空连续镀膜恒张力控制装置
专利权的终止
摘要

本实用新型涉及一种带材的卷绕装置,特别是高真空连续镀膜用卷绕恒张力控制装置。本装置的收/放卷轴及同轴向的随动过渡轴固定于真空室内的连接支撑装置上,并对应与真空室外安装的力矩传感限制器、传动减速装置和直流伺服电机驱动连接;室外装的PLC可编程控制器与力矩传感限制器和直流伺服电机电控连接。本装置结构简单,节省能源,真空室容积利用率高,适应带材范围广,可实现不同卷绕速度及张力情况下,基体带无斜拉伸及平整度好,并可提高设备利用率。

基本信息
专利标题 :
高真空连续镀膜恒张力控制装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN200820081208.0
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2008-05-16
授权号 :
CN201212058Y
授权日 :
2009-03-25
发明人 :
杨滨
申请人 :
昆明理工大学
申请人地址 :
650093云南省昆明市五华区学府路253号(昆明理工大学)
代理机构 :
昆明今威专利代理有限公司
代理人 :
赵 云
优先权 :
CN200820081208.0
主分类号 :
C23C14/54
IPC分类号 :
C23C14/54  C23C14/56  C23C14/24  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/54
镀覆工艺的控制或调节
法律状态
2012-07-11 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101288710407
IPC(主分类) : C23C 14/54
专利号 : ZL2008200812080
申请日 : 20080516
授权公告日 : 20090325
终止日期 : 20110516
2009-03-25 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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