具有测量光束均匀化的测量装置
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摘要
具有测量光束均匀化的测量装置。本发明涉及一种光学测量装置(1)，该光学测量装置具有：用于放置测量装置(1)的基座；和瞄准单元(3)，该瞄准单元可相对于该基座旋转并且限定用于瞄准待测量的目标物体(40)的目标轴(9)。瞄准单元(3)具有用于沿待测量的目标物体(40)的方向发射光学测量辐射(10、10i、10d、10h)的第一射束光束路径(20、20a)。瞄准单元(3)还具有衍射光学元件(30)，其被布置或可布置在射束光束路径(20、20a)中，使得光学测量辐射(10、10i、10d、10h)被均匀化。
基本信息
专利标题 ：
具有测量光束均匀化的测量装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN110030969A
申请号 ：
CN201811493532.8
公开（公告）日 ：
2019-07-19
申请日 ：
2018-12-07
授权号 ：
CN110030969B
授权日 ：
2022-05-24
发明人 ：
雷托·施图茨J·莱斯J·辛德林
申请人 ：
莱卡地球系统公开股份有限公司
申请人地址 ：
瑞士海尔博瑞格
代理机构 ：
北京三友知识产权代理有限公司
代理人 ：
李艳芳
优先权 ：
CN201811493532.8
主分类号 ：
G01C1/02
IPC分类号 ：
G01C1/02 G01C5/00 G01C15/00 G01S17/08
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01C
测量距离、水准或者方位；勘测；导航；陀螺仪；摄影测量学或视频测量学
G01C1/00
测量角度
G01C1/02
经纬仪
法律状态
2022-05-24 ：
授权
2019-08-13 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01C 1/02
申请日 : 20181207
申请日 : 20181207
2019-07-19 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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