一种光束测量装置
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摘要
本实用新型公开了一种光束测量装置，包括待测光源；第一成像组件，所述第一成像组件为面阵探测器，且直接接收待测光源的一定出射角度内的光线；活动支架，活动支架相对待测光源设置，所述第一成像组件设置于所述活动支架上，其中，所述第一成像组件在所述活动支架的控制下在二维平面内进行移动。本实用新型公开一种光束测量装置，通过直接接收待测光源一定出射角度内的光线，不仅可对光源的光线结构、均匀性、光强分布进行测量，还可以对待测光源中各出射角度内的光线的光强和出射角度进行测量，同时也避免了现有技术中使用匀光膜而导致光线投射到匀光膜时形成光斑边界向外扩散，而导致测量结果受影响的问题，具有显著的有益效果。
基本信息
专利标题 ：
一种光束测量装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921375052.1
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-08-23
授权号 ：
CN210346907U
授权日 ：
2020-04-17
发明人 ：
潘建根黄艳许耀东
申请人 ：
杭州远方光电信息股份有限公司
申请人地址 ：
浙江省杭州市滨江区滨康路669号
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN201921375052.1
主分类号 ：
G01J1/42
IPC分类号 ：
G01J1/42 G01J3/28 G01J11/00
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01J
红外光、可见光、紫外光的强度、速度、光谱成分，偏振、相位或脉冲特性的测量；比色法；辐射高温测定法
G01J1/00
光度测定法，例如照相的曝光表
G01J1/42
采用电辐射检测器
法律状态
2020-04-17 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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