亚纳米级光基基板清洁机构

授权

摘要

各种实施例包括用于清洁基板的设备和相关方法。在一个实施例中，设备包括基板保持器，以保持基板并使基板以各种速率旋转。在该设备的操作期间，可选的内护罩和可选的外护罩在处于闭合位置时围绕该基板保持器。该内护罩和该外护罩中的每一个可在旋转速率和方向中的至少一者上独立于另一个护罩来操作。前侧激光器和后侧激光器中的至少一者被布置成通过将光照射到该基板的至少一个表面上来基本上同时地或独立地清洁该基板的一侧或两侧以及该基板的边缘。气流与该护罩和该基板的高旋转速率相结合来辅助从该基板去除污水。公开了附加的设备和形成该设备的方法。

基本信息

专利标题：

亚纳米级光基基板清洁机构

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN110603629A

申请号：

CN201880023871.1

公开（公告）日：

2019-12-20

申请日：

2018-02-05

授权号：

CN110603629B

授权日：

2022-04-29

发明人：

R.S.兰哈瓦H.克里斯托夫

申请人：

平面半导体公司

申请人地址：

美国加利福尼亚州

代理机构：

中国专利代理(香港)有限公司

代理人：

佘鹏

优先权：

CN201880023871.1

主分类号：

H01L21/67

IPC分类号：

H01L21/67 H01L21/02

IPC结构图谱

H部——电学

H01

基本电气元件

H01L

半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件

H01L21/00

专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备

H01L21/67

专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置

法律状态

2022-04-29 ：

授权

2020-01-14 ：

实质审查的生效

IPC(主分类) : H01L 21/67
申请日 : 20180205

2019-12-20 ：

公开

注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。

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