缺陷预测
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摘要
一种方法，包括获得由器件制造过程产生的衬底上的多个图案的特征验证值；使用非概率模型获得特征计算值；基于验证值和计算值获得非概率模型的残差值；以及基于残差值获得残差分布的属性。本文还公开了计算由器件制造过程产生的衬底上的缺陷的概率的方法，以及获得非概率模型残差分布的属性的方法。
基本信息
专利标题 ：
缺陷预测
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN110869854A
申请号 ：
CN201880046240.1
公开（公告）日 ：
2020-03-06
申请日 ：
2018-06-20
授权号 ：
CN110869854B
授权日 ：
2022-06-10
发明人 ：
钟玲莉B·拉方丹M·J·基亚Y·尤迪斯蒂拉M·P·F·格宁
申请人 ：
ASML荷兰有限公司
申请人地址 ：
荷兰维德霍温
代理机构 ：
北京市金杜律师事务所
代理人 ：
王茂华
优先权 ：
CN201880046240.1
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-06-10 ：
授权
2020-03-31 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/20
申请日 : 20180620
申请日 : 20180620
2020-03-06 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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