一种用于单光子干涉可见度的测量装置及方法
授权
摘要
一种用于单光子干涉可见度的测量装置及方法，装置包括：激光器(1)、光斩波器(2)、可调光衰减器(3)、待测AMZI(4)、门控式单光子探测器(5)、计算机(9)、信号发生器(6)、光功率计(8)，以及相位调节系统(7)。利用该方法可以确定单光子探测计数随待测AMZI(4)相位变化的曲线，根据曲线中单光子探测计数的最大值和最小值计算单光子干涉可见度。可以直接对任意延时AMZI干涉仪单光子干涉可见度进行测量，并且可测量单个AMZI干涉仪单光子干涉的可见度。
基本信息
专利标题 ：
一种用于单光子干涉可见度的测量装置及方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN112304444A
申请号 ：
CN201910692918.X
公开（公告）日 ：
2021-02-02
申请日 ：
2019-07-29
授权号 ：
CN112304444B
授权日 ：
2022-06-10
发明人 ：
李骁安俊明王玥任梅珍王亮亮张家顺尹小杰吴远大
申请人 ：
中国科学院半导体研究所
申请人地址 ：
北京市海淀区清华东路甲35号
代理机构 ：
中科专利商标代理有限责任公司
代理人 ：
周天宇
优先权 ：
CN201910692918.X
主分类号 ：
G01J9/02
IPC分类号 ：
G01J9/02 G01B9/02
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01J
红外光、可见光、紫外光的强度、速度、光谱成分，偏振、相位或脉冲特性的测量；比色法；辐射高温测定法
G01J9/00
测量光学相位差；测定相干性的程度；测量光学波长
G01J9/02
采用干涉法
法律状态
2022-06-10 ：
授权
2021-02-23 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01J 9/02
申请日 : 20190729
申请日 : 20190729
2021-02-02 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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