用于电子元件加工的光刻装置
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摘要

本实用新型公开了用于电子元件加工的光刻装置,包括箱体、机头、集尘盒,所述箱体后面设置有立柱,所述立柱顶部安装有所述机头,所述机头下面安装有激光头,所述立柱前方设置有夹具,所述夹具和所述箱体螺栓连接,所述夹具一侧设置有防尘罩,所述防尘罩形状为圆弧形,所述防尘罩和所述箱体铆接在一起,所述防尘罩下方设置有排尘口,所述排尘口上面安装有支撑网。本实用新型所述的用于电子元件加工的光刻装置,利用气流喷吹,可以在刻印前先对电子元件表面灰尘进行清理,避免灰尘对激光可以的影响,通过可任意弯折的万向软骨,方便调整喷嘴的位置和气流方向,便于操作,利用集尘盒和过滤网使气流循环流动,减小了灰尘扩散的范围。

基本信息
专利标题 :
用于电子元件加工的光刻装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201920488424.5
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-04-12
授权号 :
CN209606773U
授权日 :
2019-11-08
发明人 :
温景文
申请人 :
上海驰法电子科技有限公司
申请人地址 :
上海市松江区洞泾路8号18幢
代理机构 :
上海宏京知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
何艳娥
优先权 :
CN201920488424.5
主分类号 :
G03F7/20
IPC分类号 :
G03F7/20  B08B5/02  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2019-11-08 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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