一种电子元件生产的光刻装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种电子元件生产的光刻装置，包括光刻机本体、支撑底座，所述光刻机本体的下方设置有支撑底座，支撑底座的上端开设有若干个槽，槽内设置有电动伸缩杆，电动伸缩杆的上端与光刻机本体固定连接，支撑底座的为圆形，支撑底座的上端中部开设有阶梯状的槽，支撑底座内侧设置有若干个卡托件、托板一，托板一位于卡托件的下方，支撑底座的内底部设置有圆台，所述光刻机本体的一侧设置有控制件，控制件上设置有显示面板和操作面板，本实用新型多种卡接结构，对不同型号的晶圆进行卡接固定，且卡托件采用螺纹固定，便于取下。
基本信息
专利标题 ：
一种电子元件生产的光刻装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201922434099.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-12-30
授权号 ：
CN210776186U
授权日 ：
2020-06-16
发明人 ：
伍家成
申请人 ：
肇庆市家成电子有限公司
申请人地址 ：
广东省肇庆市高要区白土镇大辂头村（伍家成宅）
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN201922434099.7
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2020-06-16 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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