一种光刻机光源装置
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摘要

本实用新型提供一种光刻机光源装置。所述一种光刻机光源装置包括不锈钢架和控制系统,不锈钢架内表面通过螺钉与冷却装置固定连接,冷却装置一侧与光源单元板组合架间隙配合。本实用新型提供的一种光刻机光源装置通过采用控制系统,光电传感器能够通过光电效应来将光转换为电流,用电流大小来表示光强,光电传感器将数据转换为电信号传递到处理器,处理器通过信号发射器将电磁波发射出去,外界控制设备接收电磁波,并且发射电磁波回到信号接收器,信号接收器接收信号传导到处理器,处理器控制调光器来控制LED灯的亮度,解决了现有的光源装置,使用者无法了解光源装置内部所放出的光强,并且无法控制光强的问题。

基本信息
专利标题 :
一种光刻机光源装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201921322791.4
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-08-14
授权号 :
CN210954608U
授权日 :
2020-07-07
发明人 :
唐阳明
申请人 :
上海图双精密装备有限公司
申请人地址 :
上海市青浦区华浦路500号6幢A区1层199室
代理机构 :
代理人 :
优先权 :
CN201921322791.4
主分类号 :
G03F7/20
IPC分类号 :
G03F7/20  
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2020-07-07 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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