基于半导体制冷片的光刻机LED UV光源散热系统
授权
摘要
本实用新型公开了一种基于半导体制冷片的光刻机LED UV光源散热系统，包括导热板、半导体制冷片和散热风扇，导热板与LED UV灯板紧密连接，LED UV灯板上均布有多个灯珠，半导体制冷片冷端与导热板连接，散热风扇设置在导热板上方，且半导体制冷片热端连接靠近散热风扇，本实用新型结构简单，能够降低LED UV芯片衰减，减少曝光均匀，散热结构简单、成本低、效果好。
基本信息
专利标题 ：
基于半导体制冷片的光刻机LED UV光源散热系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201922254704.2
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-12-16
授权号 ：
CN211061850U
授权日 ：
2020-07-21
发明人 ：
崔文荣
申请人 ：
江苏晟驰微电子有限公司
申请人地址 ：
江苏省南通市海安经济技术开发区康华路55号
代理机构 ：
北京天盾知识产权代理有限公司
代理人 ：
张彩珍
优先权 ：
CN201922254704.2
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2020-07-21 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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