一种光电子元件制造的光刻装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种光电子元件制造的光刻装置，包括固定机构、光刻机构，所述固定机构包括工作台、固定座、支撑座，所述工作台上方设置有所述固定座，所述固定座下端面前后对称各设置有一个所述支撑座，所述固定座一侧设置有固定架，所述固定架内侧安装有电动伸缩杆，所述电动伸缩杆远离所述固定架一端安装有夹块，所述固定架远离所述固定座一侧设置有侧板，所述侧板侧面安装有一号电机。本实用新型结构简单，设计合理，生产成本低，不仅方便对工件进行固定，同时方便对工件两面进行光刻，节省人力，极大的提高了工作效率。
基本信息
专利标题 ：
一种光电子元件制造的光刻装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021965706.9
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-09-10
授权号 ：
CN212873187U
授权日 ：
2021-04-02
发明人 ：
王浩鹏
申请人 ：
江苏紫石机械制造有限公司
申请人地址 ：
江苏省南通市海安市白甸镇工业园区
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202021965706.9
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2021-04-02 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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