一种手套箱结合原子层沉积的镀膜设备
授权
摘要
本实用新型公开一种手套箱结合原子层沉积的镀膜设备，设备包括清洗系统、前驱体系统、加热系统、控制系统、手套箱系统以及工作反应区系统；清洗系统用于填充惰性气体；前躯体系统用于提供沉积层所需的气相前驱体；加热系统通过线路由控制系统控制，用于为前驱体系统、管路以及工作反应区系统加热；控制系统控制清洗系统、前驱体系统的开闭和加热系统的工作温度；手套箱系统用于给活泼金属材料提供惰性保护气体环境；工作反应区系统用于放置样品及作为样品与前驱体发生反应的工作区域；本实用新型提供的手套箱结合原子层沉积镀膜设备，可以实现材料在惰性气体氛围下实现沉积过程，并同时能够保证沉积层的均匀性以及厚度的有效控制等方面。
基本信息
专利标题 ：
一种手套箱结合原子层沉积的镀膜设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201920535984.1
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-04-19
授权号 ：
CN210048850U
授权日 ：
2020-02-11
发明人 ：
张跃飞王明明程晓鹏唐亮
申请人 ：
北京工业大学
申请人地址 ：
北京市朝阳区平乐园村100号
代理机构 ：
北京高沃律师事务所
代理人 ：
张德才
优先权 ：
CN201920535984.1
主分类号 ：
C23C16/455
IPC分类号 ：
C23C16/455 C23C16/06 C23C16/52
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/455
向反应室输入气体或在反应室中改性气流的方法
法律状态
2020-02-11 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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