一种适用于半导体晶片单面抛光加工的环状陶瓷载盘
授权
摘要

本实用新型提供了一种适用于半导体晶片单面抛光加工的环状陶瓷载盘,属于半导体材料加工技术领域,包括承载组件,所述承载组件包括陶瓷载盘、吸盘和圆形槽,所述陶瓷载盘上表面开设有圆形槽,所述圆形槽和所述陶瓷载盘固定连接,所述圆形槽上表面设置有所述吸盘,所述吸盘和所述圆形槽的内侧壁可拆卸连接,通过设置所述圆形槽和所述吸盘,使得晶片放入到所述圆形槽中,所述吸盘的吸力将晶片固定在所述圆形槽内,从而解决了现有技术的半导体晶片贴附于陶瓷载盘上,在切割过程中容易造成晶片偏离,使得切割精度不达标从而给操作人员带来不必要麻烦的问题。

基本信息
专利标题 :
一种适用于半导体晶片单面抛光加工的环状陶瓷载盘
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201921025134.3
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-07-03
授权号 :
CN210550374U
授权日 :
2020-05-19
发明人 :
王永成
申请人 :
上海致领半导体科技发展有限公司
申请人地址 :
上海市浦东新区创业路369弄1-68号20幢3层301室
代理机构 :
上海精晟知识产权代理有限公司
代理人 :
吴金姿
优先权 :
CN201921025134.3
主分类号 :
B24B37/30
IPC分类号 :
B24B37/30  
IPC结构图谱
B
B部——作业;运输
B24
磨削;抛光
B24B
用于磨削或抛光的机床、装置或工艺(用电蚀入B23H;磨料或有关喷射入B24C;电解浸蚀或电解抛光入C25F3/00;磨具磨损表面的修理或调节;磨削,抛光剂或研磨剂的进给
B24B37/00
研磨机床或装置;附件
B24B37/27
工件载体
B24B37/30
用于平面的单侧研磨
法律状态
2020-05-19 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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