一种用于193nm光刻机中准分子激光器的能量探测电路
授权
摘要
本实用新型涉及能量探测领域，具体涉及一种用于193nm光刻机中准分子激光器的能量探测电路。该能量探测电路首先光电二极管对193nm光刻机中准分子激光器的光信号进行探测得到电流信号，并通过有源滤波电路得到单个脉冲的电压信号，消除光电二极管电流电压转换过程中拖尾信号对测试结果的影响。其次，滤波之后单个脉冲的电压信号经过比较器来触发触发器，触发器的下降沿时间可以调节，触发器触发控制开关电路，开关电路控制经过有源滤波电路之后的积分电路，同时积分电路通过改变可变电容器容值来改变最终的输出电压值。与现有技术相比，本实用新型电路简单，易于实现，能有效提高能量测量的精度和准确性。
基本信息
专利标题 ：
一种用于193nm光刻机中准分子激光器的能量探测电路
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921081140.0
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-07-11
授权号 ：
CN210072319U
授权日 ：
2020-02-14
发明人 ：
廖密韩晓泉冯泽斌刘广义张华张琴王香殷青青
申请人 ：
北京科益虹源光电技术有限公司
申请人地址 ：
北京市大兴区经济技术开发区经海四路156号10号楼二层201
代理机构 ：
深圳市科进知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
曹卫良
优先权 ：
CN201921081140.0
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20 G01J1/42 G01J1/44
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2020-02-14 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
