一种带废气收集装置的半导体钛钨蚀刻机
授权
摘要
本实用新型涉及蚀刻设备技术领域，具体为一种带废气收集装置的半导体钛钨蚀刻机，包括装置主体，装置主体上设有废气收集处理装置，废气收集处理装置包括设置在装置主体上的第一出气管，保护套筒内设有驱动电机，驱动电机的输出轴末端紧密焊接有若干个呈环状等间距排列的风扇叶片，底座上设有第二出气管，第二出气管上设有废气处理筒，排气管的末端管体的管壁上紧密粘接有细滤网。本实用新型操作简单，使用方便，实现对蚀刻过程中产生的废气进行处理，减少有害气体对人体造成的不利影响。
基本信息
专利标题 ：
一种带废气收集装置的半导体钛钨蚀刻机
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921144098.2
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-07-21
授权号 ：
CN210636072U
授权日 ：
2020-05-29
发明人 ：
闫文军杜良辉张勇
申请人 ：
江苏壹度科技股份有限公司
申请人地址 ：
江苏省镇江市句容市开发区崇明西路102号
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN201921144098.2
主分类号 ：
C23F1/08
IPC分类号 ：
C23F1/08 B01D46/10 B01D53/04
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23F
非机械方法去除表面上的金属材料；金属材料的缓蚀；一般防积垢；至少一种在C23大类中所列的方法及至少一种在C21D、C22F小类或者C25大类中所列的方法的多步法金属材料表面处理
C23F1/00
金属材料的化学法蚀刻
C23F1/08
装置，如照相印刷制版装置
法律状态
2020-05-29 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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