一种全新的物理气相沉积铝腔体配件装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种全新的物理气相沉积铝腔体配件装置，包括旋拧工件、金属内筒和金属外筒，所述金属内筒一侧设有环形凸沿部，且环形凸沿部一边沿轴向开设有连通金属内筒的第一穿孔，所述金属内筒外壁设有外螺纹部，所述金属外筒内壁设有与外螺纹部规格相适配的内螺纹部，所述金属外筒一端开有第二穿孔，所述旋拧工件包括卡盘，且卡盘一侧设有阶梯槽，所述卡盘远离阶梯槽一面中部位置处螺接有支杆，且支杆远离卡盘一端焊接有旋杆。本实用新型可以使得保养装配更便捷，缩短保养的时间，减小保养的工作量，相比以前的装置，该装置是用螺纹固定各配件，各配件之间的装配更紧密，减小粘片的机率，提高机器的稳定性。
基本信息
专利标题 ：
一种全新的物理气相沉积铝腔体配件装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921328671.5
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-08-16
授权号 ：
CN210394499U
授权日 ：
2020-04-24
发明人 ：
刘祥超
申请人 ：
上海知昊电子科技有限公司
申请人地址 ：
上海市浦东新区川宏路528号
代理机构 ：
北京中索知识产权代理有限公司
代理人 ：
赵登阳
优先权 ：
CN201921328671.5
主分类号 ：
C23C14/22
IPC分类号 ：
C23C14/22
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
法律状态
2020-04-24 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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