一种多腔体化学气相沉积设备
实质审查的生效
摘要

本发明公开了一种多腔体化学气相沉积设备,包括箱体,所述箱体上设有气体供给结构,所述箱体内部通过若干个分隔结构分隔成多个腔体,所述箱体内部设有若干个加热结构,所述箱体内部设有若干个升降结构,若干个所述升降结构上均设有载物结构,本发明的有益效果是,在沉积时间较长的情况下,如金刚石膜、非晶硅膜,但不仅限于金刚石膜和非晶硅膜,可以在三个、十个或多个腔体的设备中同时进行沉积,一次性规模化完成膜材料的工业制备,节省了硬件投资成本和运行成本;在复杂的工艺条件和顺序下,视工艺条件而定,沉积工艺可以在单腔体中进行,通过升降台调整基板和热丝以及气体分配系统的距离,避免发生副反应,影响产品质量。

基本信息
专利标题 :
一种多腔体化学气相沉积设备
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114411120A
申请号 :
CN202210071484.3
公开(公告)日 :
2022-04-29
申请日 :
2022-01-21
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
王萍
申请人 :
德州智南针机械科技有限公司
申请人地址 :
山东省德州市经济技术开发区袁桥镇东方红东路6596号(德州中元科技创新园股份有限公司2号车间北跨北-11)
代理机构 :
天津盈佳知识产权代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 :
安娜
优先权 :
CN202210071484.3
主分类号 :
C23C16/455
IPC分类号 :
C23C16/455  C23C16/458  C23C16/46  C23C16/54  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/455
向反应室输入气体或在反应室中改性气流的方法
法律状态
2022-05-20 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 16/455
申请日 : 20220121
2022-04-29 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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