一种光阻供应装置及涂胶设备
专利申请权、专利权的转移
摘要
本实用新型涉及平板显示制造技术领域,特别涉及一种光阻供应装置及涂胶设备。该光阻供应装置包括:支架框及光阻桶,光阻桶悬空固定于支架框内;光阻桶的桶底向外凸出且形成有最低点,最低点设置有用于连接光阻涂布机台的出料端口;光阻桶的顶部设置有进料端口以及用于调节光阻桶内压强的稳压结构。光阻桶的桶底向外凸出,桶内盛装的光阻在重力作用下向下流动,随着使用消耗会逐渐集中到光阻桶底部的最低处,并自最低处的出料端口接入光阻涂布机台使用,不会在光阻桶底部存留积液,有效减少了光阻滞留桶内所引起的浪费;而支架框对光阻桶除了固定支撑以及保护作用,进一步方便了装置的转移与更换,为光阻涂布机台提供更稳定的光阻供应。
基本信息
专利标题 :
一种光阻供应装置及涂胶设备
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201921364688.6
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-08-21
授权号 :
CN210181385U
授权日 :
2020-03-24
发明人 :
程龙刘运田刘玉兴杨澜
申请人 :
京东方科技集团股份有限公司;北京北旭电子材料有限公司
申请人地址 :
北京市朝阳区酒仙桥路10号
代理机构 :
北京同达信恒知识产权代理有限公司
代理人 :
李欣
优先权 :
CN201921364688.6
主分类号 :
G03F7/16
IPC分类号 :
G03F7/16
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/16
涂层处理及其设备
法律状态
2021-04-23 :
专利申请权、专利权的转移
专利权的转移IPC(主分类) : G03F 7/16
登记生效日 : 20210409
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 京东方科技集团股份有限公司
变更后权利人 : 北京北旭电子材料有限公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号
变更后权利人 : 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 北京北旭电子材料有限公司
登记生效日 : 20210409
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 京东方科技集团股份有限公司
变更后权利人 : 北京北旭电子材料有限公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号
变更后权利人 : 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 北京北旭电子材料有限公司
2020-03-24 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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